扫描电子显微镜放大倍率可达30万倍
信息分类：生命科学资讯 作者:YIYI发布
扫描电子显微镜放大倍率可达30万倍
场效发射式扫描电子显微镜
观察材料表面纵深形貌，放大倍率可达30万倍。
应用领域：
包含纳米材料、半导体、封装、印刷电路板、BGA、光碟片、LED等产业之表面、故障分析等。
特别注意事项：
样品或试片准备需知：
样品材质为固体、尺寸3mm～50mm见方或圆形或粉体、厚度<2cm。
工作环境要求： 有空调环境、隔磁、防震。
多功能场发射扫描式电子显微镜附加了能量分散X光谱仪(EDS)、阴极发光分析仪(CL)及电子背向散射绕射仪(EBSD)，
主要应用于固态、纳米材料的表面形貌及微结构影像观察，
并同时进行微区的化学组成、发光特性及结晶方位等分析。EDS用于成份分析，包括定性、半定量、
特定区域化学元素之mapping及line scan等。CL用于发光光谱量测、CL影像分析、微量杂质、缺陷分析等。
用于多晶材料之晶体结构、取向、微区织构、晶粒、晶界性质分析等。
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