光学量测技术保留了光学量测技术中非接触、快速显像等特性,又提供了相当高的空间解析率,
在学术界与产业界都有很好的应用价值。再加上它的架设与传统光学
显微镜完全相容,对不熟悉光学系统的人士而言,操作与维护也不困难
在纳米光学中,一个很重要且基本的q为如何去观察纳米区域的光学特性,
我们知道光学显微技术受限于绕射限制,根据 Rayleigh Criterion,它的极限为 0.61λ/N.a. 其中 N.a.为数值口径,λ为波长,在空气中我们所能看到的极限约为半个波长,
利用纳米口径产生仅存在于近场的光学衰减波(evanescent wave有别于以透镜为主的远场光学,
利用纳米口径产生仅存在于近场的光学衰减波(evanescent wave),以其所特有的
高横向波向量对纳米结构进行扫瞄,达到突破绕射限制的光学解析度。此类近场光学显微术的核心为一能产生奈
米光点的探针,我们发展一种终端蚀刻技术可将一般光纤蚀刻成表面光滑具有数十纳米口径的探针。
目前我们结合此光纤探针与原子力显微技术,研究光在光子晶体结构上的传播现象与应用