电子扫描显微镜(SEM)用来量测纳米级表面特征尺寸
信息分类：生命科学资讯 作者:YIYI发布
电子扫描显微镜(SEM)用来量测纳米级表面特征尺寸
一般而言，在量测奈米级表面特征尺寸主要之量测设备为电子扫描显微镜(SEM)、穿透式电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)等仪器，
这些仪器可量测数十微米至几个奈米等级表面特征，解析度都可达0.1 nm。但使用TEM时，TEM试片制作依照传统方法，
经切割、研磨、离子薄化、镀碳等过程，準备工作是相当费时费工，且属于破坏性检测。扫描式电子显微镜(CD- Scanning Electron microscopy, CD-SEM)
尚可量测CD，但受制于SEM使用高压、高速电子，
其量测过程会衝击待测物而造成损坏及高温烧毁，或者造成光阻性质改变，且只能量测到2D，
对于SWA无法进行检测。另外发展以光学散射量测CD技术，
但只适用于週期性光栅之线宽量测，无法量测单一条线宽，有鑑于此，
利用仅约奈牛顿力之原子力显微镜发展关键尺寸量测之技术，且AFM在线宽量测追溯系统也已被提出。
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