采用电子束微影设备其解析能力可至次微米级
信息分类：生命科学资讯 作者:YIYI发布
将样品（D）使用电子光束蒸镀系统（E-Gun Evaporator , E-Gun）在样品上镀一层厚 150 奈米（nanometer，nm）的铝。
接着在镀好的铝上，旋转涂布（spin coating）一层 PMMA 光阻，再用加热板烘烤
接着在镀好的铝上，旋转涂布（spin coating）一层 PMMA 光阻，再用加热板烘烤
一个小时。
我们采用电子束微影设备（E-Beam Writer）来进行曝光，以达到次微米级的微影条件，因为电子束的波长远比一般所使用的深
我们采用电子束微影设备（E-Beam Writer）来进行曝光，以达到次微米级的微影条件，因为电子束的波长远比一般所使用的深
紫外光短很多，随着电压增加，电子束波长亦会变得更短，
所以其解析能力可至次微米级。将设计好的图案曝写在样品上，再使用显影剂
所以其解析能力可至次微米级。将设计好的图案曝写在样品上，再使用显影剂
（MIBK）显影。完成显影后，我们使用氢氟酸（HF）来对铝蚀刻，达成图案转移，
最后再用紫外光臭氧清洗机（UV-Ozone Asher）除去光阻，如此就完成我们的加工制程
最后再用紫外光臭氧清洗机（UV-Ozone Asher）除去光阻，如此就完成我们的加工制程
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