以OM光学以及SEM电子显微镜观察纳米金属点
信息分类：生命科学资讯 作者:YIYI发布
应用奈米球微影术(Nanosphere Lithography；NSL)，是利用奈米球排列出二维
平面的球阵列当作一种遮罩，于遮罩上镀上金属薄膜，经由举离后，观察其留下
之金属点阵列。实验上主要分成四个部份：
(1)矽基座的清洗。
(2)奈米球微影术应用于奈米金属粒子结构的制作。
在实验中，探讨以PS奈米球为主要材料，在矽基座上以旋转涂布的方式制作完整
且排列有序的单层奈米球遮罩。在制作奈米球阵列的过程中，
试着改变PS奈米球与乙醇的比例，进一步观察奈米球阵列的排列性。
(3)在镀金属膜的方式上，采用溅镀与蒸镀两种方式。
(4)最后，将矽基座浸泡于二氯甲烷经由震荡举离，
以移除奈米球得到奈米金属点阵列
样品制备:
1. 矽基座清洗 :
（硫酸H2O2）震荡30分钟→DI water震荡10分钟→丙酮震荡15分钟→
DI water震荡10分钟→无水酒精15分钟
2. 奈米球混合液调配：
由奈米球悬浮液与乙醇以体积比1:11稀释而成
3.将奈米球混合液涂布在矽基座上，涂布机转速为750 ~ 1750 rpm，
时间为 30 ~ 70 秒。
4.基座镀膜：
(1)溅镀白金1800Å (2)蒸镀铝1800Å
5.以OM光学显微镜、SEM显微镜、FE-SEM显微镜等仪器扫描矽基座借以观察奈米球的排列情形。
6.将基座浸泡于二氯甲烷并超音波震荡5 ~ 25秒，移除奈米球。
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