利用投影仪来投影光栅条纹至物体上,由
于投影仪的投射范围太大,无法直接投射在微小待测物
上,因此透过自行组装的方式改良投影仪的投射范围,将
其投影面积限制在约20 × 10 mm 内,使其能涵盖整个待测
物。但由于改装时所选用的投影仪镜头并不是针对投影仪
而设计的,因此产生了光场分布不均的情况,
针对此状况, 开发了补偿机制以用来解决光场分布不均的问题;
虽然透过补偿可以将光场分布不均的影响降至最低,但对
于影像的前处理及后续的分析上,还是可以见到光场分布
不均对影像品质的影响。
开发了渐进式的二 值化方法,可以顺着光场分布的方向做二值化,经实验证
明,此法可以有效改善因影像品质不佳而难以做二值化处 理的窘境。