电解抛光可以适用于许多金属产品的表面
电解抛光的起源
电解抛光的专利文献,最早的是德国在 1912 年以氰化物应用于电解抛光的案
例。在 1935 年时,又有电解抛光运用于铜金属的金相研究实例。从 1940 年的核
能时代开始,电解抛光的技术就开始被重视;包括核反应炉的炉心,都必须以电
解抛光做过处理。于 1970 年开始,电解抛光技术在美国的工业上普遍使用。于
1980 年开始,才被应用在美国和日本的半导体工业上。
电解抛光的功能与应用
电解抛光可以适用于许多金属产品的表面处理,举凡碳钢、不锈钢、锌、铜、
镍、钴、钨、铝和钛等金属上,其特性是使金属表面平滑、洁净、没有杂质,并
具有钝化效果,并且可以藉以进行精密加工。
电解抛光的应用范围十分广泛,举凡半导体工业、制药、化工、食品和装饰
用制程,都运用得到这项技术