金字塔抗反射结构之应用
单晶矽太阳能电池若表面未制作任何抗反射处理,将会有30~35%的光能因反射而损失。
常见的抗反射处理为:抗反射层涂佈或可使光线多重反射之表面结构,
常见的有V 字沟槽、金字塔与逆金字塔结构。由美国University of New South Wales
所开发之着名
元件Passivated Emitter Rear Locally diffused,
该结构中采用逆金字塔结构来增加光吸收效率,虽然有良好的性能,
但由于此结构需经过多次黄光制程后,再经溼蚀刻形成,除了耗时外,制程也相当的昂贵