溶解涂层的厚度截面分析金相显微镜，计量光学仪器
信息分类：生命科学资讯 作者:YIYI发布
在较缓慢的掩模对准与曝光操作之前涂好胶的硅片可短期
贮存。在曝光操作中，将每一片硅片置于合适的掩模下，精确
地套准图形广使硅片与掩模相接触并在象汞弧灯那样的强紫外
光源下曝光适当时间。可使用“近接触式”，即“接近式”光刻或
将掩模图形投影予硅片上。
硅片曝光后进行显影。其操作步骤是溶解涂层的所有未曝
光部分并留下粘附的曝光部分。应进行显影检查以保证所有未
曝光材料都已除尽，而且显影溶剂不能侵蚀聚合材料以免图形
边缘变形。
显影后必须烘干和坚固留在涂层上的图形，以便在未发生
钻蚀或脱胶现象的情况下进行下一步的腐蚀操作。胶膜应有极
佳的粘附性，以尽可能减少腐蚀过程中可能产生的“侧蚀”现
象．
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