生长阶前与受支配位错的相互作用
显然,晶体顶机的受支配位错在底面则可能是支配位错,这一
真实情形,这块晶体局部地薄到足以呈现干涉色,从照片上可以
知道位错A在顶面上受支配的,而在底面以育了间隔的几圈蜷线
,从上面观察时,两蜷线,的旋转方向 是相同的,由于干涉图
我们可以进一步推导出,顶面和底面上蜷线的梯阶高度是相等的
,后一种标记证明,有一条伸延到整个晶体的中断线同时在顶面
和底面上都产生一个相同高度的梯阶,显然,这种中断具有螺型
位错的几何特性,然而,这张照片提出了一个问题,因为按照简
单的考虑,从上面观察时顶面和底面上的两个蜷线应该具有相反
的旋转方向,可能的解释是,底面上的蜷线上在整个晶面上蒸汽
供应并不均匀而优先应于晶面周边的条件下形成的,我们已经指
出,在这种情况下,可能形成一个旋转方向相反的蜷线状凹洼。